電源 | · 電壓:AC380V 三相 50/60Hz · 功率:8KW |
真空腔體 | · 不銹鋼(SS304)真空腔體:內徑 400mm×高度 450mm,表面處理為拋光 · 設有直徑100mm的觀察窗口 · 鉸鏈式門,便于樣品裝載 · 每個蒸發(fā)皿配備電動遮擋片 · 一個 ISO-100K 端口,用于與分子泵系統(tǒng)和閥連接 |
真空泵(可選) | · 260 L/s 分子泵系統(tǒng) · 真空度: 5.0x10-6 Torr ( 抽真空40分鐘后 ) · 泄漏率: 5.0x10-7 Pa · 真空接口: DN 100 ISO-K · 需要一臺機械泵作為輔助泵,以初步達到< 1e-2 Torr的真空度水平 |
蒸發(fā)源&樣品架 | · 6個蒸發(fā)源 · 2個鎢舟的蒸發(fā)源(采用水冷電極),無溫控,最高溫度可達1500℃ · 4個電阻加熱蒸發(fā)源,溫控型,最高溫度700℃ |
原位薄膜測厚儀(可選) | · 石英晶體振蕩原位測厚 · 厚度測量的精度為 1.0 埃 |
控制單元 | · 真空度、厚度和功率控制被整合到了一個控制箱中 · 控制單元與真空室相分離,便于移動 |
鍍膜儀在手套箱中(可選) | · 鍍膜儀可以放置在單體或雙體手套箱內,并通過滑動門進行操作 · 有關手套箱的更多詳細信息,請參見此處:VGB-6-II |
循環(huán)水冷機 | · 水冷:水流速> 16 L/min用于電極冷卻 |
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